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  • Anillo cerámico de alta precisión de alúmina

    Anillo cerámico de alta precisión de alúmina

    Fabricadas mediante prensado isostático en frío y sinterizadas a alta temperatura, para luego ser mecanizadas y pulidas con precisión, las piezas de repuesto cerámicas cumplen con los requisitos más exigentes de los equipos de semiconductores gracias a su resistencia al desgaste, a la corrosión, a la baja dilatación térmica y a su capacidad aislante. La cerámica puede utilizarse durante largos periodos en diversos equipos de producción de semiconductores, incluso en condiciones de alta temperatura, vacío o gases corrosivos.

    Fabricado con polvo de alúmina de alta pureza, procesado mediante prensado isostático en frío, sinterización a alta temperatura y acabado de precisión, puede alcanzar una tolerancia dimensional de ±0,001 mm, un acabado superficial Ra 0,1 y una resistencia a la temperatura de 1600 ℃.

  • ST.CERA Equipos personalizados para semiconductores Platos cerámicos

    ST.CERA Equipos personalizados para semiconductores Platos cerámicos

    Fabricadas mediante prensado isostático en frío y sinterizadas a alta temperatura, para luego ser mecanizadas y pulidas con precisión, las piezas de repuesto cerámicas cumplen con los requisitos más exigentes de los equipos de semiconductores gracias a su resistencia al desgaste, a la corrosión, a la baja dilatación térmica y a su capacidad aislante. La cerámica puede utilizarse durante largos periodos en diversos equipos de producción de semiconductores, incluso en condiciones de alta temperatura, vacío o gases corrosivos.

    Fabricado con polvo de alúmina de alta pureza, procesado mediante prensado isostático en frío, sinterización a alta temperatura y acabado de precisión, puede alcanzar una tolerancia dimensional de ±0,001 mm, un acabado superficial Ra 0,1 y una resistencia a la temperatura de 1600 ℃.

  • Efector final cerámico de carburo de silicio (SiC): alta rigidez para la manipulación de obleas a altas temperaturas.

    Efector final cerámico de carburo de silicio (SiC): alta rigidez para la manipulación de obleas a altas temperaturas.

    El efector final de cerámica SiC de St.Cera se fabrica con carburo de silicio de alta pureza (99,72 % de SiC, 0,05 % de Si libre) utilizando el lote de material S1111. Ofrece propiedades mecánicas excepcionales: resistencia a la flexión de 449 MPa (medida), módulo elástico de 457 GPa (medido) y dureza Vickers de 25–28 GPa (típica). Su baja densidad (3,10–3,15 g/cm³, típica) proporciona una alta rigidez específica, ideal para robots de transferencia de obleas de alta velocidad. Con una conductividad térmica de 120–150 W/m·K (típica) y un coeficiente de expansión térmica de 4,0–4,5 × 10⁻⁶/℃ (típico), este efector final disipa eficazmente el calor y mantiene la estabilidad dimensional durante la manipulación a altas temperaturas (hasta 1600–1700 °C, sin carga). Su color negro/gris y su nula absorción de agua garantizan la compatibilidad con salas blancas.

  • Plato de vacío a base de carburo de silicio (SiC) para entornos de alta temperatura y plasma.

    Plato de vacío a base de carburo de silicio (SiC) para entornos de alta temperatura y plasma.

    El soporte cerámico de St.Cera, basado en SiC, está fabricado con carburo de silicio de alta pureza (lote S1111, 99,72 % de SiC, 0,05 % de Si libre). Ofrece una resistencia a la flexión medida de 449 MPa, una tenacidad a la fractura de 3,12 MPa·m¹/² y un módulo elástico de 457 GPa. La conductividad térmica típica del material (120–150 W/m·K) y su baja dilatación térmica (4,0–4,5 × 10⁻⁶/°C) permiten un rápido aumento de temperatura y una mínima deformación de la oblea durante el ciclo térmico. El soporte puede configurarse como un soporte de vacío poroso (flujo de gas uniforme) o como un soporte estándar ranurado. Con una temperatura máxima de uso de 1600–1700 °C (sin carga) y una excepcional resistencia a la erosión por plasma, este soporte es ideal para el procesamiento de obleas a alta temperatura (recocido, RTP) y cámaras de grabado agresivas donde los soportes de alúmina se degradan.

  • Repuestos cerámicos para equipos semiconductores, soportes cerámicos

    Repuestos cerámicos para equipos semiconductores, soportes cerámicos

    Fabricadas mediante prensado isostático en frío y sinterizadas a alta temperatura, para luego ser mecanizadas y pulidas con precisión, las piezas de repuesto cerámicas cumplen con los requisitos más exigentes de los equipos de semiconductores gracias a su resistencia al desgaste, a la corrosión, a la baja dilatación térmica y a su capacidad aislante. La cerámica puede utilizarse durante largos periodos en diversos equipos de producción de semiconductores, incluso en condiciones de alta temperatura, vacío o gases corrosivos.

    Fabricado con polvo de alúmina de alta pureza, procesado mediante prensado isostático en frío, sinterización a alta temperatura y acabado de precisión, puede alcanzar una tolerancia dimensional de ±0,001 mm, un acabado superficial Ra 0,1 y una resistencia a la temperatura de 1600 ℃.

  • Anillo de rectificado de cerámica de alúmina con respaldo metálico para aplicaciones de lapeado de alta rigidez.

    Anillo de rectificado de cerámica de alúmina con respaldo metálico para aplicaciones de lapeado de alta rigidez.

    El anillo de rectificado de alúmina con base metálica de St.Cera combina una capa de desgaste cerámica de alúmina de alta pureza (99,8 % Al₂O₃) con un soporte metálico mecanizado con precisión (normalmente aluminio o acero inoxidable). Este diseño híbrido proporciona la excepcional resistencia al desgaste y la inercia química de la cerámica en la superficie de rectificado, mientras que la base metálica aporta resistencia mecánica, fácil montaje y resistencia a la fractura frágil. La capa de alúmina ofrece una resistencia a la flexión de 361 MPa, una dureza Vickers de 16 GPa y una estabilidad térmica de hasta 800 °C. La base metálica se puede personalizar con orificios de montaje, pasadores de posicionamiento o propiedades magnéticas para su integración en máquinas de lapeado, rectificadoras planetarias y equipos CMP.

  • Repuestos cerámicos para equipos de estaciones de prueba de semiconductores

    Repuestos cerámicos para equipos de estaciones de prueba de semiconductores

    Fabricadas mediante prensado isostático en frío y sinterizadas a alta temperatura, para luego ser mecanizadas y pulidas con precisión, las piezas de repuesto cerámicas cumplen con los requisitos más exigentes de los equipos de semiconductores gracias a su resistencia al desgaste, a la corrosión, a la baja dilatación térmica y a su capacidad aislante. La cerámica puede utilizarse durante largos periodos en diversos equipos de producción de semiconductores, incluso en condiciones de alta temperatura, vacío o gases corrosivos.

    Fabricado con polvo de alúmina de alta pureza, procesado mediante prensado isostático en frío, sinterización a alta temperatura y acabado de precisión, puede alcanzar una tolerancia dimensional de ±0,001 mm, un acabado superficial Ra 0,1 y una resistencia a la temperatura de 1600 ℃.

  • Procesamiento personalizado de porta-obleas de cerámica de Al2O3

    Procesamiento personalizado de porta-obleas de cerámica de Al2O3

    Fabricadas mediante prensado isostático en frío y sinterizadas a alta temperatura, para luego ser mecanizadas y pulidas con precisión, las piezas de repuesto cerámicas cumplen con los requisitos más exigentes de los equipos de semiconductores gracias a su resistencia al desgaste, a la corrosión, a la baja dilatación térmica y a su capacidad aislante. La cerámica puede utilizarse durante largos periodos en diversos equipos de producción de semiconductores, incluso en condiciones de alta temperatura, vacío o gases corrosivos.

    Fabricado con polvo de alúmina de alta pureza, procesado mediante prensado isostático en frío, sinterización a alta temperatura y acabado de precisión, puede alcanzar una tolerancia dimensional de ±0,001 mm, un acabado superficial Ra 0,1 y una resistencia a la temperatura de 1600 ℃.

  • Placa cerámica para equipos semiconductores personalizados de ST.CERA

    Placa cerámica para equipos semiconductores personalizados de ST.CERA

    Fabricadas mediante prensado isostático en frío y sinterizadas a alta temperatura, para luego ser mecanizadas y pulidas con precisión, las piezas de repuesto cerámicas cumplen con los requisitos más exigentes de los equipos de semiconductores gracias a su resistencia al desgaste, a la corrosión, a la baja dilatación térmica y a su capacidad aislante. La cerámica puede utilizarse durante largos periodos en diversos equipos de producción de semiconductores, incluso en condiciones de alta temperatura, vacío o gases corrosivos.

    Fabricado con polvo de alúmina de alta pureza, procesado mediante prensado isostático en frío, sinterización a alta temperatura y acabado de precisión, puede alcanzar una tolerancia dimensional de ±0,001 mm, un acabado superficial Ra 0,1 y una resistencia a la temperatura de 1600 ℃.

  • Plato de vacío de alúmina de 12 pulgadas para el procesamiento de obleas de 300 mm.

    Plato de vacío de alúmina de 12 pulgadas para el procesamiento de obleas de 300 mm.

    El plato de vacío de 12 pulgadas de St.Cera está diseñado con precisión a partir de alúmina (Al₂O₃) de alta pureza (99,8 %) para la manipulación de obleas de 300 mm. El plato presenta una superficie con ranuras finas (ancho de ranura de 0,5 a 1,0 mm, paso de 2 a 3 mm) para garantizar una distribución uniforme del vacío en todo el diámetro de 300 mm. La planitud se mantiene dentro de 5 μm, lo que permite una fijación sin deformaciones de la oblea durante el corte, el rectificado de la cara posterior y la inspección. La alta resistencia a la flexión (361 MPa) y la dureza (16 GPa) del material garantizan una estabilidad dimensional a largo plazo incluso bajo ciclos de vacío repetidos.

  • Efector final de cerámica de alúmina con canales de vacío integrados

    Efector final de cerámica de alúmina con canales de vacío integrados

    El efector final de vacío de alúmina de St.Cera integra canales de vacío y orificios de succión mecanizados con precisión directamente en el cuerpo de alúmina de alta pureza (99,8 %). Este diseño elimina las almohadillas de vacío externas, lo que permite la recogida directa de la oblea con una fuerza de sujeción uniforme. La alta resistencia a la flexión (361 MPa) y la dureza (16 GPa) del material garantizan una estabilidad dimensional a largo plazo bajo ciclos de vacío repetidos. La planitud en toda el área de la almohadilla se mantiene dentro de 10 μm, lo que evita la tensión y la rotura de la oblea. Los puertos de vacío están ubicados en la brida de montaje trasera para una fácil integración con brazos robóticos OEM.

  • Componentes cerámicos de alúmina antiestáticos para la manipulación de obleas sensibles a la estática.

    Componentes cerámicos de alúmina antiestáticos para la manipulación de obleas sensibles a la estática.

    Las piezas cerámicas de alúmina ESD (descarga electrostática) de St.Cera se fabrican con Al₂O₃ de alta pureza (99,8 %) y presentan una resistividad superficial optimizada de 10⁶–10⁹ Ω/sq, lograda mediante un proceso patentado de dopaje o recubrimiento. Estas piezas disipan eficazmente la carga estática, evitando daños electrostáticos en obleas y dispositivos semiconductores sensibles. El material base conserva su alta resistencia a la flexión (361 MPa), dureza (16 GPa) y rigidez dieléctrica (15 × 10⁶ V/m). Entre las piezas cerámicas ESD se incluyen efectores finales, pasadores de elevación, guías y accesorios personalizados para la automatización de la fabricación aditiva (FAB).